Αντίσταση στην διάβρωση του TiAlSiN το οποίο χρησιμοποιήθηκε ως επίστρωμα σε SS σε διάλυμα 3.5 wt% NaCl.

 
δείτε την πρωτότυπη σελίδα τεκμηρίου
στον ιστότοπο του αποθετηρίου του φορέα για περισσότερες πληροφορίες και για να δείτε όλα τα ψηφιακά αρχεία του τεκμηρίου*
κοινοποιήστε το τεκμήριο




2016 (EL)
Αντίσταση στην διάβρωση του TiAlSiN το οποίο χρησιμοποιήθηκε ως επίστρωμα σε SS σε διάλυμα 3.5 wt% NaCl.

Μούρτζιου, Μαρίνα Στέλλα Αντωνίου

Το αντικείμενο της εργασίας αυτής είναι η αντίσταση στη διάβρωση του TiAlSiN, το οποίο χρησιμοποιήθηκε ως επίστρωμα σε ανοξείδωτο ατσάλι (SS) σε διάλυμα 3.5 wt% NaCl.Tα επιστρώματα TiAlSiN οδηγούν σε μεγάλες τιμές αντίστασης πόλωσης, μετά την πάροδο 10 min εμβάπτισης του δείγματος στο διάλυμα Το δυναμικό ανοικτού κυκλώματος εμφανίζει τάση αύξησης με την πάροδο του χρόνου παραμονής στο διάλυμα, γεγονός που σημαίνει σχηματισμό οξειδίου στην επιφάνεια του TiAlSiN. Παρατηρείται μείωση της αντίστασης πόλωσης μετά 24h και εμφανίζει αξιοσημείωτη μείωση μέχρι 96 h, ενώ στη συνέχεια παραμένει περίπου σταθερή. Η τιμή της χωρητικότητας αυξάνεται ελαφρώς, που σημαίνει ότι η δράση των ιόντων χλωρίου που οδηγούν σε σημειακή διάβρωση είναι περιορισμένη εξαιτίας του σχηματισμού οξειδίου. Εξαιτίας της δράσης των ιόντων χλωρίου, η αντίσταση πόλωσης συνεχίζει να ελαττώνεται με μικρό ρυθμό μέχρι την 3η εβδομάδα, ενώ στη συνέχεια παρατηρείται αύξηση λόγω, πιθανόν, της επαναπαθητικοποίησης ενεργών τοπικών εστιών διάβρωσης. Η ετερογένεια της επιφάνειας μεταβάλλεται ελάχιστα σε συμφωνία με την υπόθεση για τον ταυτόχρονο, με τη δράση των ιόντων χλωρίου, σχηματισμό του οξειδίου. Το TiAlSiN είναι ανθεκτικό στη διάβρωση μέσα σε ουδέτερα διαλύματα ιόντων χλωρίου εξαιτίας του σχηματισμού σταθερού οξειδίου στην επιφάνεια του. Το δυναμικό σημειακής διάβρωσης είναι μετατοπισμένο σε τιμές θετικότερες του δυναμικού ανοικτού κυκλώματος, σε αντίθεση με το επίστρωμα ΤiN. Η παρουσία των Αl και Si βοηθά στην επαναπαθητικοποίηση των τοπικών ενεργών εστιών διάβρωσης με σχηματισμό σταθερού οξειδίου. Παρόλη την παραμονή του δείγματος σε διάλυμα ιόντων χλωρίου, διατηρεί παρόμοια χαρακτηριστικά με το αρχικό δείγμα, σε συμφωνία με την υπόθεση επαναπαθητικοποίησης των τοπικών ενεργών εστιών διάβρωσης που δημιουργούνται.
The subject of this work is the corrosion resistance of a TiAlSiN coating on stainless steel (SS) in a 3.5% w/w NaCl solution. TiAlSiN coatings lead to a high polarization resistance after 10 minutes of immersion into the solution. The open circuit potential tends to increase after staying in the solution for some time and this indicates the formation of oxide on the surface of TiAlSiN. After 24h a decrease in polarization resistance has been observed and which remarkably continues to decrease up to a 96h point at which it becomes almost stable. Electrode capacitance increases slightly which means that chloride induced pitting corrosion is limited as a result of the formation of the oxide. Due to the action of the chloride ions, the polarization resistance continues to decrease at a small rate until the third week, whilst afterwards an increase is observed, probably, as a result of repassivation of the local active corrosion areas. The heterogeneity of the surface changes slightly in accordance with the hypothesis of the simultaneous action of chloride ions during the formation of the oxide. Due to the formation of stable oxide on its surface, TiAlSiN is resistant to corrosion in neutral solutions of chloride ions. Contrary to TiN coatings, the potential of pitting corrosion is shifted to values more positive than that of the open circuit potential. The presence of Al and Si helps towards the repassivation of pits with the formation of a stable oxide. Despite the fact that the sample remained in a solution of chloride ions, it retained similar characteristics with the initial sample, according to the hypothesis of pit passivation.

info:eu-repo/semantics/masterThesis
Postgraduate Thesis / Μεταπτυχιακή Εργασία

Μικροσκοπία Ατομικής Δύναμης
Electrochemical Impendance Spectroscopy
Corrosion
Φασματοσκοπία Ηλεκτροχημικής Εμπέδησης
Atomic Force Microscopy
Διάβρωση

Αριστοτέλειο Πανεπιστήμιο Θεσσαλονίκης (EL)
Aristotle University of Thessaloniki (EN)

Ελληνική γλώσσα

2016
2016-11-10T08:25:31Z


Αριστοτέλειο Πανεπιστήμιο Θεσσαλονίκης, Σχολή Θετικών Επιστημών, Τμήμα Χημείας

This record is part of 'IKEE', the Institutional Repository of Aristotle University of Thessaloniki's Library and Information Centre found at http://ikee.lib.auth.gr. Unless otherwise stated above, the record metadata were created by and belong to Aristotle University of Thessaloniki Library, Greece and are made available to the public under Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International license (http://creativecommons.org/licenses/by-sa/4.0). Unless otherwise stated in the record, the content and copyright of files and fulltext documents belong to their respective authors. Out-of-copyright content that was digitized, converted, processed, modified, etc by AUTh Library, is made available to the public under Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International license (http://creativecommons.org/licenses/by-sa/4.0). You are kindly requested to make a reference to AUTh Library and the URL of the record containing the resource whenever you make use of this material.
info:eu-repo/semantics/openAccess



*Η εύρυθμη και αδιάλειπτη λειτουργία των διαδικτυακών διευθύνσεων των συλλογών (ψηφιακό αρχείο, καρτέλα τεκμηρίου στο αποθετήριο) είναι αποκλειστική ευθύνη των αντίστοιχων Φορέων περιεχομένου.