High aspect ratio micro/nano machining with proton beam writing on aqueous developable - easily stripped negative chemically-amplified resists

 
Το τεκμήριο παρέχεται από τον φορέα :
ΤΕΙ Αθήνας
Αποθετήριο :
Υπατία - Ιδρυματικό Αποθετήριο
δείτε την πρωτότυπη σελίδα τεκμηρίου
στον ιστότοπο του αποθετηρίου του φορέα για περισσότερες πληροφορίες και για να δείτε όλα τα ψηφιακά αρχεία του τεκμηρίου*
κοινοποιήστε το τεκμήριο



High aspect ratio micro/nano machining with proton beam writing on aqueous developable - easily stripped negative chemically-amplified resists (EN)

Βαλαμόντες, Ευάγγελος Σ. (EL)
Χατζηχρηστίδη, Μαργαρίτα (EL)
Αργείτης, Παναγιώτης (EL)
Ράπτης, Ιωάννης Α. (EL)
Van Kan, Jeroen Anton (EN)

N/A (EN)
Zhang, Fang (EN)
Watt, Frank R. (EN)

Proton beam writing (PBW) is a new direct-writing process that uses a focused beam of MeV protons to pattern resist material at nano dimensions. PBW has the unique ability to maintain a straight path through 50 μm thick resist films, and is suitable for high aspect ratio micro(nano)-machining. TADEP resist is a new promising high aspect ratio chemically-amplified resist that can be developed in aqueous base developer and has the capability of stripping in conventional stripping schemes. By employing PBW on TADEP resist patterns with 280 nm linewidth and a thickness of 12 μm have been resolved showing an aspect ratio of 42. Following Ni electroplating of the TADEP features, Ni structures of height 0.8 μm and spacing of 167 nm, produced in 2 μm thick TADEP, were demonstrated indicating the easy stripping characteristics of the TADEP resist. (EN)

journalArticle

High aspect ratio (EN)
Υψηλή αναλογία διαστάσεων (EN)
Micromachining (EN)
Nanomachining (EN)
Resist stripping (EN)
Μικρομηχανική (EN)
Νανομηχανική (EN)
Γραφή δέσμης πρωτονίου (EN)
Proton beam writing (EN)

ΤΕΙ Αθήνας (EL)
Technological Educational Institute of Athens (EN)

Microelectronic Engineering (EN)

Αγγλική γλώσσα

2008-05

doi:10.1016/j.mee.2007.12.005

Elsevier (EN)



*Η εύρυθμη και αδιάλειπτη λειτουργία των διαδικτυακών διευθύνσεων των συλλογών (ψηφιακό αρχείο, καρτέλα τεκμηρίου στο αποθετήριο) είναι αποκλειστική ευθύνη των αντίστοιχων Φορέων περιεχομένου.