A review of line edge roughness and surface nanotexture resulting from patterning processes

 
Το τεκμήριο παρέχεται από τον φορέα :
ΤΕΙ Αθήνας
Αποθετήριο :
Υπατία - Ιδρυματικό Αποθετήριο
δείτε την πρωτότυπη σελίδα τεκμηρίου
στον ιστότοπο του αποθετηρίου του φορέα για περισσότερες πληροφορίες και για να δείτε όλα τα ψηφιακά αρχεία του τεκμηρίου*
κοινοποιήστε το τεκμήριο



A review of line edge roughness and surface nanotexture resulting from patterning processes (EN)

Πάτσης, Γεώργιος (EL)
Τσερέπη, Αγγελική (EL)
Γογγολίδης, Ευάγγελος (EL)
Κωνσταντούδης, Βασίλειος (EL)

N/A (EN)

The importance of surface and sidewall roughness in nanotechnology is discussed and a roughness study framework is presented. The framework is based on the interaction triangle: application, characterization and material processing. An overview of roughness characterization and metrology as well as line edge roughness (LER) resulting from nanolithography is presented. Examples of plasma induced roughness and nanotexturing are given for polydimethylsiloxane and silicon surfaces. (EN)

journalArticle

Material processing (EN)
LER (EN)
Επεξεργασία υλικού (EN)
Νανοτεχνολογία (EN)
Nanotechnology (EN)

ΤΕΙ Αθήνας (EL)
Technological Educational Institute of Athens (EN)

Microelectronic Engineering (EN)

Αγγλική γλώσσα

2006-04

DOI: 10.1016/j.mee.2006.01.162

Elsevier (EN)



*Η εύρυθμη και αδιάλειπτη λειτουργία των διαδικτυακών διευθύνσεων των συλλογών (ψηφιακό αρχείο, καρτέλα τεκμηρίου στο αποθετήριο) είναι αποκλειστική ευθύνη των αντίστοιχων Φορέων περιεχομένου.