Characterization and simulation of surface and line-edge roughness in photoresists

 
Το τεκμήριο παρέχεται από τον φορέα :
ΤΕΙ Αθήνας
Αποθετήριο :
Υπατία - Ιδρυματικό Αποθετήριο
δείτε την πρωτότυπη σελίδα τεκμηρίου
στον ιστότοπο του αποθετηρίου του φορέα για περισσότερες πληροφορίες και για να δείτε όλα τα ψηφιακά αρχεία του τεκμηρίου*
κοινοποιήστε το τεκμήριο



Characterization and simulation of surface and line-edge roughness in photoresists (EN)

Πάτσης, Γεώργιος Π. (EL)
Βαλαμόντες, Ευάγγελος Σ. (EL)
Γογγολίδης, Ευάγγελος (EL)
Τσερέπη, Αγγελική Δ. (EL)
Κωνσταντούδης, Βασίλειος (EL)

N/A (EN)

An overview is given on the problem of roughness in photoresists. Focus is on the inspection of three relevant aspects: quantitative characterization, dependence on some material properties and process conditions, and molecular simulations. (EN)

journalArticle

Fractal διάσταση (EN)
Fractal dimension (EN)
Negative tone epoxy resists (EN)
Απόκλιση μέσης τετραγωνικής ρίζας (EN)
Γεννήτρια συγκέντρωσης φωτοξέων (EN)
Root mean square deviation (EN)
Line-edge roughness (EN)
Προσομοιωτής μοριακού τύπου (EN)
Photoacid generator concentration (EN)
Molecular type simulator (EN)

ΤΕΙ Αθήνας (EL)
Technological Educational Institute of Athens (EN)

Journal of Vacuum Science and Technology B (EN)

Αγγλική γλώσσα

2001-11

DOI: 10.1116/1.1420582

American Institute of Physics (EN)



*Η εύρυθμη και αδιάλειπτη λειτουργία των διαδικτυακών διευθύνσεων των συλλογών (ψηφιακό αρχείο, καρτέλα τεκμηρίου στο αποθετήριο) είναι αποκλειστική ευθύνη των αντίστοιχων Φορέων περιεχομένου.