Surface and line-edge roughness in solution and plasma developed negative tone resists

 
Το τεκμήριο παρέχεται από τον φορέα :
ΤΕΙ Αθήνας
Αποθετήριο :
Υπατία - Ιδρυματικό Αποθετήριο
δείτε την πρωτότυπη σελίδα τεκμηρίου
στον ιστότοπο του αποθετηρίου του φορέα για περισσότερες πληροφορίες και για να δείτε όλα τα ψηφιακά αρχεία του τεκμηρίου*
κοινοποιήστε το τεκμήριο



Surface and line-edge roughness in solution and plasma developed negative tone resists (EN)

Πάτσης, Γεώργιος Π. (EL)
Γλέζος, Νίκος Μ. (EL)
Τσερέπη, Αγγελική Δ. (EL)
Γογγολίδης, Ευάγγελος (EL)
Ράπτης, Ιωάννης Α. (EL)

Βαλαμόντες, Ευάγγελος Σ. (EL)
N/A (EN)

A framework for the study of surface roughness and line-edge roughness was presented. Experimental results from siloxane resists showed that such systems had the potential of very low surface roughness. A description of surface roughness and line-edge roughness simulation was also given. It was possible to simulate the change of roughness with dose, development time, acid diffusion length, PAG concentration, and polymer structure. (EN)

journalArticle

Αντιανακλαστικές επιστρώσεις (EN)
Computer simulation (EN)
Surface roughness (EN)
Μικροδομή (EN)
Μικροηλεκτρονική (EN)
Microelectronics (EN)
Plasmas (EN)
Πλάσμα (EN)
Microstructure (EN)
Επιφανειακή τραχύτητα (EN)
Υπολογιστική προσομοίωση (EN)
Antireflection coatings (EN)

ΤΕΙ Αθήνας (EL)
Technological Educational Institute of Athens (EN)

Journal of Vacuum Science and Technology B (EN)

Αγγλική γλώσσα

2000-11

DOI: 10.1116/1.1321281

American Institute of Physics (EN)



*Η εύρυθμη και αδιάλειπτη λειτουργία των διαδικτυακών διευθύνσεων των συλλογών (ψηφιακό αρχείο, καρτέλα τεκμηρίου στο αποθετήριο) είναι αποκλειστική ευθύνη των αντίστοιχων Φορέων περιεχομένου.