Simulation of surface and line-edge roughness formation in resists

 
Το τεκμήριο παρέχεται από τον φορέα :
ΤΕΙ Αθήνας
Αποθετήριο :
Υπατία - Ιδρυματικό Αποθετήριο
δείτε την πρωτότυπη σελίδα τεκμηρίου
στον ιστότοπο του αποθετηρίου του φορέα για περισσότερες πληροφορίες και για να δείτε όλα τα ψηφιακά αρχεία του τεκμηρίου*
κοινοποιήστε το τεκμήριο



Simulation of surface and line-edge roughness formation in resists (EN)

Πάτσης, Γεώργιος (EL)
Γογγολίδης, Ευάγγελος (EL)

N/A (EN)

A molecular-type simulation of surface (SR) and line-edge-roughness (LER) is presented and applied to a negative-tone Chemically Amplified Resist (CAR). The simulator can follow the appearance of SR and LER after each process step and predict the roughness dependence on material properties and process conditions. The simulation results are compared with SR experimental data for a negative-tone chemically amplified epoxy resist. (EN)

journalArticle

LER (EN)
Surface roughness (EN)
Μικροηλεκτρονική (EN)
Microelectronics (EN)
Τραχύτητα επιφάνειας (EN)
Applied physics (EN)
Εφαρμοσμένη φυσική (EN)

ΤΕΙ Αθήνας (EL)
Technological Educational Institute of Athens (EN)

Microelectronic Engineering (EN)

Αγγλική γλώσσα

2001-09

DOI: 10.1016/S0167-9317(01)00547-0

Elsevier (EN)



*Η εύρυθμη και αδιάλειπτη λειτουργία των διαδικτυακών διευθύνσεων των συλλογών (ψηφιακό αρχείο, καρτέλα τεκμηρίου στο αποθετήριο) είναι αποκλειστική ευθύνη των αντίστοιχων Φορέων περιεχομένου.