Molecular dynamics simulation of gel formation and acid diffusion in negative tone chemically amplified resists

 
Το τεκμήριο παρέχεται από τον φορέα :
ΤΕΙ Αθήνας
Αποθετήριο :
Υπατία - Ιδρυματικό Αποθετήριο
δείτε την πρωτότυπη σελίδα τεκμηρίου
στον ιστότοπο του αποθετηρίου του φορέα για περισσότερες πληροφορίες και για να δείτε όλα τα ψηφιακά αρχεία του τεκμηρίου*
κοινοποιήστε το τεκμήριο



Molecular dynamics simulation of gel formation and acid diffusion in negative tone chemically amplified resists (EN)

Πάτσης, Γεώργιος (EL)
Γλέζος, Νίκος (EL)

N/A (EN)

The knowledge of the structural changes that occur during the lithographic process using chemically amplified resists (CARs) is of great importance in process and resist optimization. Molecular dynamics (MD) is a suitable method for the simulation of these microscopic changes. A detailed description of the lithographic procedure including reaction propagation, acid diffusion, cage effects, free volume effects and developer selectivity can be included in such a model. The comparison of contrast curve data and acid diffusion measurements with MD modeling, leading to the evaluation of microscopic parameters are presented in this paper. (EN)

journalArticle

Acid diffusion (EN)
Διάχυση οξέων (EN)
Μικροηλεκτρονική (EN)
Microelectronics (EN)
Εφαρμοσμένη φυσική (EN)
Applied physics (EN)

ΤΕΙ Αθήνας (EL)
Technological Educational Institute of Athens (EN)

Microelectronic Engineering (EN)

Αγγλική γλώσσα

1999-05

DOI: 10.1016/S0167-9317(99)00104-5

Elsevier (EN)



*Η εύρυθμη και αδιάλειπτη λειτουργία των διαδικτυακών διευθύνσεων των συλλογών (ψηφιακό αρχείο, καρτέλα τεκμηρίου στο αποθετήριο) είναι αποκλειστική ευθύνη των αντίστοιχων Φορέων περιεχομένου.