Internal stress in growing ZrO2 films

 
Το τεκμήριο παρέχεται από τον φορέα :

Αποθετήριο :
Ψηφιακό Αποθετήριο της Κεντρικής Βιβλιοθήκης του ΕΜΠ | Dspace@NTUA
δείτε την πρωτότυπη σελίδα τεκμηρίου
στον ιστότοπο του αποθετηρίου του φορέα για περισσότερες πληροφορίες και για να δείτε όλα τα ψηφιακά αρχεία του τεκμηρίου*
κοινοποιήστε το τεκμήριο



Σημασιολογικός εμπλουτισμός από το EKT
Τμήμα περιοδικού (EL)
Επιστημονικό άρθρο (EL)
1991 (EL)
Internal stress in growing ZrO2 films (EN)
Panagopoulos, ChrN (EN)
The anodic and open-circuit stresses were studied during the potentiostatic anodic oxidation of zirconium. The anodic stress, i.e. the superposition of growth and electrostrictive stresses, was found to be compressive whereas the open-circuit stress was found to be tensile in the growing zirconium oxide. For a constant value of anodization time, the anodic stress was observed to decrease and the opencircuit stress to increase with increasing thickness of the growing zirconium oxide. © 1991. (EN)
journalArticle (EN)
Internal Stress (EN)
Stresses (EN)
Anodic Stress (EN)
Metallurgy & Metallurgical Engineering (EN)
Valve Metals (EN)
Chemistry, Physical (EN)
Zirconium and Alloys (EN)
Εθνικό Μετσόβιο Πολυτεχνείο
Ψηφιακό Αποθετήριο της Κεντρικής Βιβλιοθήκης του ΕΜΠ | Dspace@NTUA
Κεντρική Βιβλιοθήκη Ε.Μ.Π.
Ιδρυματικό Αποθετήριο
Δημοσιεύσεις μελών Δ.Ε.Π. σε περιοδικά
Journal of The Less-Common Metals (EN)
Αγγλική γλώσσα
1991 (EN)
http://hdl.handle.net/123456789/10466
0022-5088 (EN)
2 (EN)
168 (EN)
ISI:A1991FF60900004 (EN)
182 (EN)
10.1016/0022-5088(91)90299-J (EN)
175 (EN)
ELSEVIER SCIENCE SA LAUSANNE (EN)



*Η εύρυθμη και αδιάλειπτη λειτουργία των διαδικτυακών διευθύνσεων των συλλογών (ψηφιακό αρχείο, καρτέλα τεκμηρίου στο αποθετήριο) είναι αποκλειστική ευθύνη των αντίστοιχων Φορέων περιεχομένου.