1. Αρχική σελίδα
  2. Αναζήτηση

Pattern matching, simulation, and metrology of complex layouts fabricated by electron beam lithography

Το τεκμήριο παρέχεται από τον φορέα :
ΤΕΙ Αθήνας   

Αποθετήριο :
Υπατία - Ιδρυματικό Αποθετήριο   

δείτε την πρωτότυπη σελίδα τεκμηρίου
στον ιστότοπο του αποθετηρίου του φορέα για περισσότερες πληροφορίες και για να δείτε όλα τα ψηφιακά αρχεία του τεκμηρίου*



Pattern matching, simulation, and metrology of complex layouts fabricated by electron beam lithography (EN)
Πάτσης, Γεώργιος (EL)
Δρυγιαννάκης, Δ. (EL)
Ράπτης, Ιωάννης (EL)
Τσικρικάς, Ν. (EL)
Gerardino, Annamaria (EN)
Βογιατζής, Ε. (EL)
Σταυρουλάκης, Σ. (EL)
journalArticle
2015-05-17T17:52:39Z
2015-05-17
2007-12-10
Validation of design rules taking into account fine details such as line-edge roughness, and full chip layout simulation for design inconsistencies, before actual fabrication, are among the main objectives of current software assisted metrology tools. Line-edge roughness quantification should accompany critical dimension (CD) measurements since it could be a large fraction of the total CD budget. A detailed simulation and metrology approach of line-edge roughness quantification versus the length scales in a layout are presented in this work using a combination of electron beam simulation for the exposure part, and stochastic simulations for the modeling of resist film, postexposure bake, and resist dissolution. The method is applied also on a test layout with critical dimension of 200nm and the resulted simulation and scanning electron microscopy images are compared with the aid of a pattern matching algorithm which enables the identification of the desired layout for metrology on a complex layout containing many printed features. (EN)
Journal of Vacuum Science & Technology B (EN)
JVSTB (EN)
**N/A**-Τεχνολογία
Ηλεκτρονική
http://id.loc.gov/authorities/subjects/sh85042383
Electronics
Νανοτεχνολογία
Τεχνολογία
Δέσμη ηλεκτρονίων
Microprocessor chips
Technology
**N/A**-Ηλεκτρονική
Τσιπ μικροεπεξεργαστή
http://id.loc.gov/authorities/subjects/sh85133147
Nanotechnology
Εφαρμοσμένη φυσική
Applied physics
American Vacuum Society (EN)
http://www.avs.org/
http://scitation.aip.org/content/avs/journal/jvstb/25/6/10.1116/1.2798714
Αναφορά Δημιουργού-Μη Εμπορική Χρήση-Όχι Παράγωγα Έργα 3.0 Ηνωμένες Πολιτείες
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/us/
campus
ΤΕΙ Αθήνας
Υπατία - Ιδρυματικό Αποθετήριο
Δημοσιεύσεις



*Η εύρυθμη και αδιάλειπτη λειτουργία των διαδικτυακών διευθύνσεων των συλλογών (ψηφιακό αρχείο, καρτέλα τεκμηρίου στο αποθετήριο) είναι αποκλειστική ευθύνη των αντίστοιχων Φορέων περιεχομένου.