XRD and Raman studies of low-temperature-grown GaAs epilayers

 
δείτε την πρωτότυπη σελίδα τεκμηρίου
στον ιστότοπο του αποθετηρίου του φορέα για περισσότερες πληροφορίες και για να δείτε όλα τα ψηφιακά αρχεία του τεκμηρίου*
κοινοποιήστε το τεκμήριο



XRD and Raman studies of low-temperature-grown GaAs epilayers (EN)

Lagadas, M (EN)
Raptis, YS (EN)
Hatzopoulos, Z (EN)
Calamiotou, M (EN)
Anastassakis, E (EN)

N/A (EN)

High resolution X-ray diffraction and Raman spectroscopy have been used to study GaAs epilayers grown on GaAs substrates by conventional molecular beam epitaxy and by atomic layer epitaxy, at growth temperatures ranging between 600 and 200-degrees-C. No scattering was observed by TO phonons, indicating high-quality crystallinity. Epilayers grown at 200-degrees-C are tetragonally strained with a relaxed lattice constant greater than that of GaAs. The level of residual strains depends on the type of growth. The LO phonon frequencies were downshifted compared to GaAs, due to volume expansion by As excess, misfit strains, and changes in the effective charge and reduced mass of the unit cell. An estimate for the As excess has been obtained for the epilayers grown at 200-degrees-C. (EN)

journalArticle

Misfit strains (EN)
Crystal lattices (EN)
Phonons (EN)
Atomic layer epitaxy (EN)
Volume expansion (EN)
Crystallinity (EN)
Raman spectroscopy (EN)
X ray diffraction (EN)
Substrates (EN)
Diffraction (EN)
Raman scattering (EN)
Semiconducting gallium arsenide (EN)
Molecular beam epitaxy (EN)
Low Temperature Grown (EN)
Growth (materials) (EN)
Residual strains (EN)
Epilayers (EN)
Arsenic excess (EN)

Εθνικό Μετσόβιο Πολυτεχνείο (EL)
National Technical University of Athens (EN)

Solid State Communications (EN)

1993


PERGAMON-ELSEVIER SCIENCE LTD (EN)



*Η εύρυθμη και αδιάλειπτη λειτουργία των διαδικτυακών διευθύνσεων των συλλογών (ψηφιακό αρχείο, καρτέλα τεκμηρίου στο αποθετήριο) είναι αποκλειστική ευθύνη των αντίστοιχων Φορέων περιεχομένου.