Realization and simulation of high aspect ratio micro/nano structures by proton beam writing

 
Το τεκμήριο παρέχεται από τον φορέα :
ΤΕΙ Αθήνας
Αποθετήριο :
Υπατία - Ιδρυματικό Αποθετήριο
δείτε την πρωτότυπη σελίδα τεκμηρίου
στον ιστότοπο του αποθετηρίου του φορέα για περισσότερες πληροφορίες και για να δείτε όλα τα ψηφιακά αρχεία του τεκμηρίου*
κοινοποιήστε το τεκμήριο



Realization and simulation of high aspect ratio micro/nano structures by proton beam writing (EN)

Βαλαμόντες, Ευάγγελος Σ. (EL)
Χατζηχρηστίδη, Μαργαρίτα (EL)
Ράπτης, Ιωάννης Α. (EL)
Van Kan, Jeroen Anton (EN)
Watt, Frank R. (EN)

N/A (EN)

In this paper, proton beam writing is combined with an aqueous developable-easily stripped negative chemically amplified resist (TADEP: thick aqueous developable epoxy resist) for the realization of high aspect ratio structures. Monte Carlo method is used to simulate PBW in thick resist films. Result shows that resist structures with 280 nm linewidth and aspect ratio of 40 were easily resolved. (EN)

conferenceItem
poster

Πτώση πίεσης (EN)
Fluid mechanics (EN)
Structural optimization (EN)
Pressure drop (EN)
Photoresistors (EN)
Ηλεκτρολυτική (EN)
Φωτοαντιστάσεις (EN)
Μηχανική ρευστών (EN)
Electroplating (EN)
Βελτιστοποίηση (EN)
Διαρθρωτική βελτιστοποίηση (EN)
Optimization (EN)

ΤΕΙ Αθήνας (EL)
Technological Educational Institute of Athens (EN)

20th International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 2007 (EN)

Αγγλική γλώσσα

2007

DOI: 10.1109/IMNC.2007.4456283

IEEE (EN)



*Η εύρυθμη και αδιάλειπτη λειτουργία των διαδικτυακών διευθύνσεων των συλλογών (ψηφιακό αρχείο, καρτέλα τεκμηρίου στο αποθετήριο) είναι αποκλειστική ευθύνη των αντίστοιχων Φορέων περιεχομένου.