Practical aspects for the use of plasma emission monitoring in reactive magnetron sputtering processes

 
Το τεκμήριο παρέχεται από τον φορέα :

Αποθετήριο :
Ψηφιακό Αποθετήριο της Κεντρικής Βιβλιοθήκης του ΕΜΠ | Dspace@NTUA
δείτε την πρωτότυπη σελίδα τεκμηρίου
στον ιστότοπο του αποθετηρίου του φορέα για περισσότερες πληροφορίες και για να δείτε όλα τα ψηφιακά αρχεία του τεκμηρίου*
κοινοποιήστε το τεκμήριο



Σημασιολογικός εμπλουτισμός από το EKT
Τμήμα περιοδικού (EL)
Επιστημονικό άρθρο (EL)
1994 (EL)
Practical aspects for the use of plasma emission monitoring in reactive magnetron sputtering processes (EN)
Avaritsiotis, J (EN)
Kagarakis, C (EN)
Tsiogas, C (EN)
The sensitivity of Plasma Emission Monitoring (PEM) depends on both target material and oxygen mass flow at least for indium and tin target. Optical emission intensity and cathode voltage were recorded for several argon and oxygen flows in various tin and indium oxide thin film fabrication experiments, with the magnetron working in constant current mode. The results obtained indicate marked differences between indium and tin targets, as far as their reactive sputtering behaviour is concerned. A theoretical explanation is proposed for the observed target voltage variations with increasing oxygen mass flow in relation to the corresponding optical emission intensities. © 1994. (EN)
journalArticle (EN)
Magnetron Sputtering (EN)
Oxygen (EN)
Indium oxide thin films (EN)
Materials Science, Multidisciplinary (EN)
Reactive magnetron sputtering (EN)
Control systems (EN)
Cathode voltage (EN)
Physics, Applied (EN)
Thin films (EN)
Oxygen flows (EN)
Plasma emission monitoring (PEM) (EN)
Light emission (EN)
Plasma diagnostics (EN)
Magnetron sputtering (EN)
Tin oxide thin films (EN)
Target oxidation (EN)
Monitoring (EN)
Εθνικό Μετσόβιο Πολυτεχνείο
Ψηφιακό Αποθετήριο της Κεντρικής Βιβλιοθήκης του ΕΜΠ | Dspace@NTUA
Κεντρική Βιβλιοθήκη Ε.Μ.Π.
Ιδρυματικό Αποθετήριο
Δημοσιεύσεις μελών Δ.Ε.Π. σε περιοδικά
Vacuum (EN)
Αγγλική γλώσσα
1994 (EN)
http://hdl.handle.net/123456789/11319
45 (EN)
12 (EN)
1186 (EN)
0042-207X (EN)
ISI:A1994PU78200004 (EN)
10.1016/0042-207X(94)90078-7 (EN)
1181 (EN)
PERGAMON-ELSEVIER SCIENCE LTD (EN)



*Η εύρυθμη και αδιάλειπτη λειτουργία των διαδικτυακών διευθύνσεων των συλλογών (ψηφιακό αρχείο, καρτέλα τεκμηρίου στο αποθετήριο) είναι αποκλειστική ευθύνη των αντίστοιχων Φορέων περιεχομένου.