1. Αρχική σελίδα
  2. Αναζήτηση

Physical chemistry of polymers in integrated circuits fabrication: surface silylation and dry development of epoxy novolac photoresists

Το τεκμήριο παρέχεται από τον φορέα :
Εθνικό Κέντρο Τεκμηρίωσης και Ηλεκτρονικού Περιεχομένου (ΕΚΤ)   

Αποθετήριο :
Εθνικό Αρχείο Διδακτορικών Διατριβών  | ΕΚΤ ΕΑΔΔ   

δείτε την πρωτότυπη σελίδα τεκμηρίου
στον ιστότοπο του αποθετηρίου του φορέα για περισσότερες πληροφορίες και για να δείτε όλα τα ψηφιακά αρχεία του τεκμηρίου*



Φυσικοχημεία πολυμερών σε διεργασίες αποτύπωσης σχήματος ολοκληρωμένων κυκλωμάτων: επιφανειακή απεικόνιση και εμφάνιση με ηλεκτρικές εκκενώσεις πλάσματος εποξειδωμένων πολυμερικών υλικών
Physical chemistry of polymers in integrated circuits fabrication: surface silylation and dry development of epoxy novolac photoresists
Tegou, Evangelia
Τέγου, Ευαγγελία
PhD Thesis
2000
Επιστήμες Μηχανικού και Τεχνολογία ➨ Επιστήμη Χημικού Μηχανικού
Lithography
Electron beam lithography
Silylation
Λιθογραφία
Ηλεκτρικές εκκενώσεις πλάσματος
Εποξειδωμένο φωτοπολυμερικό υλικό
Φυσικοχημεία
Chemical Engineering
Dry development
Θερμική ανάλυση
Επιστήμες Μηχανικού και Τεχνολογία
Επιστήμη Χημικού Μηχανικού
Πολυμερή
Engineering and Technology
Epoxy novolac photoresist
Plasma etching
Λιθογραφία ηλεκτρονικής δέσμης
Πυριτίωση
Ελληνική γλώσσα
Εθνικό Μετσόβιο Πολυτεχνείο (ΕΜΠ)
National Technical University of Athens (NTUA)
Εθνικό Μετσόβιο Πολυτεχνείο (ΕΜΠ). Τμήμα Χημικών Μηχανικών. Τομέας Ανάλυσης, Σχεδιασμού και Ανάπτυξης Διεργασιών και Συστημάτων
Εθνικό Κέντρο Τεκμηρίωσης και Ηλεκτρονικού Περιεχομένου (ΕΚΤ)
Εθνικό Αρχείο Διδακτορικών Διατριβών
Συλλογή ΕΑΔΔ



*Η εύρυθμη και αδιάλειπτη λειτουργία των διαδικτυακών διευθύνσεων των συλλογών (ψηφιακό αρχείο, καρτέλα τεκμηρίου στο αποθετήριο) είναι αποκλειστική ευθύνη των αντίστοιχων Φορέων περιεχομένου.