1. Home page
  2. Search

Physical chemistry of polymers in integrated circuits fabrication: surface silylation and dry development of epoxy novolac photoresists

This item is provided by the institution :
National Documentation Centre (EKT)   

Repository :
National Archive of PhD Theses  | ΕΚΤ NA.Ph.D.   

see the original item page
in the repository's web site and access all digital files if the item*



Φυσικοχημεία πολυμερών σε διεργασίες αποτύπωσης σχήματος ολοκληρωμένων κυκλωμάτων: επιφανειακή απεικόνιση και εμφάνιση με ηλεκτρικές εκκενώσεις πλάσματος εποξειδωμένων πολυμερικών υλικών
Physical chemistry of polymers in integrated circuits fabrication: surface silylation and dry development of epoxy novolac photoresists
Tegou, Evangelia
Τέγου, Ευαγγελία
PhD Thesis
2000
Επιστήμες Μηχανικού και Τεχνολογία ➨ Επιστήμη Χημικού Μηχανικού
Lithography
Electron beam lithography
Silylation
Λιθογραφία
Ηλεκτρικές εκκενώσεις πλάσματος
Εποξειδωμένο φωτοπολυμερικό υλικό
Φυσικοχημεία
Chemical Engineering
Dry development
Θερμική ανάλυση
Επιστήμες Μηχανικού και Τεχνολογία
Επιστήμη Χημικού Μηχανικού
Πολυμερή
Engineering and Technology
Epoxy novolac photoresist
Plasma etching
Λιθογραφία ηλεκτρονικής δέσμης
Πυριτίωση
Greek
Εθνικό Μετσόβιο Πολυτεχνείο (ΕΜΠ)
National Technical University of Athens (NTUA)
Εθνικό Μετσόβιο Πολυτεχνείο (ΕΜΠ). Τμήμα Χημικών Μηχανικών. Τομέας Ανάλυσης, Σχεδιασμού και Ανάπτυξης Διεργασιών και Συστημάτων
National Documentation Centre (EKT)
National Archive of PhD Theses
Συλλογή ΕΑΔΔ



*Institutions are responsible for keeping their URLs functional (digital file, item page in repository site)