1. Αρχική σελίδα
  2. Αναζήτηση

Optimization of microcrystalline silicon deposition process in variable radio-frequency plasma reactor

Το τεκμήριο παρέχεται από τον φορέα :
Εθνικό Κέντρο Τεκμηρίωσης και Ηλεκτρονικού Περιεχομένου (ΕΚΤ)   

Αποθετήριο :
Εθνικό Αρχείο Διδακτορικών Διατριβών  | ΕΚΤ ΕΑΔΔ   

δείτε την πρωτότυπη σελίδα τεκμηρίου
στον ιστότοπο του αποθετηρίου του φορέα για περισσότερες πληροφορίες και για να δείτε όλα τα ψηφιακά αρχεία του τεκμηρίου*



Βελτιστοποίηση της χημικής ενάποθεσης μικροκρυσταλλικού υδρογονωμένου πυριτίου σε αντιδραστήρα πλάσματος μεταβλητής ραδιοσυχνότητας
Optimization of microcrystalline silicon deposition process in variable radio-frequency plasma reactor
Αμανατίδης, Ελευθέριος
Amanatides, Eleftherios
PhD Thesis
2001
Επιστήμες Μηχανικού και Τεχνολογία
Επιστήμη Χημικού Μηχανικού
Μικροκρυσταλλικό πυρίτιο
Ηλεκτρικές εκκενώσεις
Radio-frequency
Ράδιο-συχνότητα
Chemical Engineering
Plasma reactors
Επιστήμες Μηχανικού και Τεχνολογία
Επιστήμη Χημικού Μηχανικού
Αντιδραστήρες πλάσματος
Microcrystalline silicon
Engineering and Technology
Σιλάνιο
Χημική εναπόθεση πλάσματος
PECVD
Φωτοβολταϊκές ιδιοσυσκευές
Silane
Glow discharges
Ελληνική γλώσσα
Πανεπιστήμιο Πατρών
University of Patras
Πανεπιστήμιο Πατρών. Σχολή Πολυτεχνική. Τμήμα Χημικών Μηχανικών. Τομέας Επιστήμης και Τεχνολογίας Υλικών. Εργαστήριο Χημείας Πλάσματος
Εθνικό Κέντρο Τεκμηρίωσης και Ηλεκτρονικού Περιεχομένου (ΕΚΤ)
Εθνικό Αρχείο Διδακτορικών Διατριβών
Συλλογή ΕΑΔΔ



*Η εύρυθμη και αδιάλειπτη λειτουργία των διαδικτυακών διευθύνσεων των συλλογών (ψηφιακό αρχείο, καρτέλα τεκμηρίου στο αποθετήριο) είναι αποκλειστική ευθύνη των αντίστοιχων Φορέων περιεχομένου.