1. Home page
  2. Search

Optimization of microcrystalline silicon deposition process in variable radio-frequency plasma reactor

This item is provided by the institution :
Εθνικό Κέντρο Τεκμηρίωσης και Ηλεκτρονικού Περιεχομένου (ΕΚΤ)   

Repository :
Εθνικό Αρχείο Διδακτορικών Διατριβών  | ΕΚΤ NA.Ph.D.   

see the original item page
in the repository's web site and access all digital files if the item*



Βελτιστοποίηση της χημικής ενάποθεσης μικροκρυσταλλικού υδρογονωμένου πυριτίου σε αντιδραστήρα πλάσματος μεταβλητής ραδιοσυχνότητας
Optimization of microcrystalline silicon deposition process in variable radio-frequency plasma reactor
Αμανατίδης, Ελευθέριος
Amanatides, Eleftherios
PhD Thesis
2001
Επιστήμες Μηχανικού και Τεχνολογία
Επιστήμη Χημικού Μηχανικού
Μικροκρυσταλλικό πυρίτιο
Ηλεκτρικές εκκενώσεις
Radio-frequency
Ράδιο-συχνότητα
Chemical Engineering
Plasma reactors
Επιστήμες Μηχανικού και Τεχνολογία
Επιστήμη Χημικού Μηχανικού
Αντιδραστήρες πλάσματος
Microcrystalline silicon
Engineering and Technology
Σιλάνιο
Χημική εναπόθεση πλάσματος
PECVD
Φωτοβολταϊκές ιδιοσυσκευές
Silane
Glow discharges
Greek
Πανεπιστήμιο Πατρών
University of Patras
Πανεπιστήμιο Πατρών. Σχολή Πολυτεχνική. Τμήμα Χημικών Μηχανικών. Τομέας Επιστήμης και Τεχνολογίας Υλικών. Εργαστήριο Χημείας Πλάσματος
Εθνικό Κέντρο Τεκμηρίωσης και Ηλεκτρονικού Περιεχομένου (ΕΚΤ)
Εθνικό Αρχείο Διδακτορικών Διατριβών
Συλλογή ΕΑΔΔ



*Institutions are responsible for keeping their URLs functional (digital file, item page in repository site)