1. Αρχική σελίδα
  2. Αναζήτηση

Μικροκατασκευή γωνιακών φραγμάτων παράθλασης με λιθογραφία ακτίνων Χ

Το τεκμήριο παρέχεται από τον φορέα :
Εθνικό Κέντρο Τεκμηρίωσης και Ηλεκτρονικού Περιεχομένου (ΕΚΤ)   

Αποθετήριο :
Εθνικό Αρχείο Διδακτορικών Διατριβών  | ΕΚΤ ΕΑΔΔ   

δείτε την πρωτότυπη σελίδα τεκμηρίου
στον ιστότοπο του αποθετηρίου του φορέα για περισσότερες πληροφορίες και για να δείτε όλα τα ψηφιακά αρχεία του τεκμηρίου*



X-ray lithographic fabrication of blazed diffraction gratings
Μικροκατασκευή γωνιακών φραγμάτων παράθλασης με λιθογραφία ακτίνων Χ
Hagouel, Paulisaac
Χάγουελ, Πωλισαάκ
PhD Thesis
1976
The dissertation demonstrates the feasibility of microfabrication of Blazed Diffraction Gratings using X-Ray Lithography. Using X-Ray lithography in tandem with holographically fabricated gratings is a key to smaller features since the wavelength of the resist ionizing radiation (X-Rays) is not constricted by the much larger wavelength of ultra violet radiation. Holographic Gratings are fabricated, as well as thin Silicon membrane X-Ray masks. The X-Ray apparatus is home built. In addition, the Ray Tracing algorithm is developed in order to simulate the resist etching process. The simulation results coincide exactly with the experimental ones.
Σκοπός της διατριβής ήταν η κατάδειξη ότι είναι δυνατή η κατασκευή γωνιακών φραγμάτων παράθλασης με Λιθογραφία Ακτίνων X. Mε την προτεινόμενη μέθοδο επιζητείται η επίτευξη αυτού του ελέγχου σε συνδυασμό με τα υπόλοιπα πλεονεκτήματα των ολογραφικών φραγμάτων παράθλασης. H ανάπτυξη της Λιθογραφίας Ακτίνων X μαζί με άλλες μεθόδους κατασκευής Ολοκληρωμένων Κυκλωμάτων, οι οποίες δεν χρησιμοποιούν ως εκθέτουσα ακτινοβολία το φάσμα του ορατού φωτός και της υπεριώδους ακτινοβολίας, είναι αναγκαία λόγω των απαιτήσεων για Oλοκληρωμένα Kυκλώματα στη Μικροηλεκτρονική με όλο και μικρότερες γεωμετρικές διαστάσεις. H Oλοκλήρωση Πολύ Mεγάλης Κλίμακας (VLSI) υπαγορεύει την ανάπτυξη νέων τεχνικών για την κατασκευαστική διαδικασία της αποτύπωσης των κυκλωματικών λεπτομερειών πάνω στις πλακέτες (wafers) Πυριτίου (Si), Γαλλίου ‐ Αρσενικού (GaAs) κα. Κατασκευάζονται φράγματα με Ολογραφία Λέιζερ, Μάσκες Λιθογραφίας Ακτίνων Χ λεπτού υμενίου πυριτίου, Διάταξη Ακτίνων Χ. Επιπρόσθετα αναπτύσσεται o αλγόριθμος Ray Tracing για την προσομοίωση της διαδικασίας εμφάνισης του Resist. Τα αποτελέσματα της προσομοίωσης ταυτίζονται πλήρως με τα πειραματικά.
Επιστήμες Μηχανικού και Τεχνολογία ➨ Επιστήμη Ηλεκτρολόγου Μηχανικού, Ηλεκτρονικού Μηχανικού, Μηχανικού Η/Υ ➨ Τεχνολογία μέσων
Ολογραφία
Προσομοίωση μετώπων κύματος
Blazed diffraction gratings
Επιστήμη Ηλεκτρολόγου Μηχανικού, Ηλεκτρονικού Μηχανικού, Μηχανικού Η/Υ
Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering
Μάσκες λεπτού υμενίου πυριτίου
Holography
Μικροηλεκτρονική
Γωνιακά φράγματα παράθλασης
Microelectronics
Τεχνολογία μέσων
Nanoelectronics
Thin silicon membrabe X-ray mask
Επιστήμες Μηχανικού και Τεχνολογία
X-ray lithography
Engineering and Technology
Simulation of resist etching
Λιθογραφία ακτίνων Χ
Resists
Media Technology
Νανοηλεκτρονική
Αγγλική γλώσσα
Institutes outside Greece
Ιδρύματα Εξωτερικού
University of California, Berkeley
Εθνικό Κέντρο Τεκμηρίωσης και Ηλεκτρονικού Περιεχομένου (ΕΚΤ)
Εθνικό Αρχείο Διδακτορικών Διατριβών
Συλλογή ΕΑΔΔ



*Η εύρυθμη και αδιάλειπτη λειτουργία των διαδικτυακών διευθύνσεων των συλλογών (ψηφιακό αρχείο, καρτέλα τεκμηρίου στο αποθετήριο) είναι αποκλειστική ευθύνη των αντίστοιχων Φορέων περιεχομένου.